Chat with us, powered by LiveChat

All In One Essence

32,00

De All-in One Essence van Hyggee is een krachtige moisturiser die tot diep in de huid hydrateert. Ingrediënten als berkensap, hyaluronzuur en geitenmelk. Het laat donkere vlekjes vervagen en heeft een effectief anti-age effect vanwege de overvloed aan Vitamine C. Daarnaast heeft de essence van Hyggee ook een exfoliërend effect die de vitaliteit van de huid herstelt en een zacht, egaal gevoel achterlaat.

In stock

Brands:Hyggee

Stappen

  1. Gebruik na cleanser, toner en eventueel serum
  2. Neem twee pompjes essence in de handpalmen en verdeel over het gezicht
  3. Dep zachtjes om de opname in de huid te bevorderen

Ingrediënten

Betula Platyphylla Japonica Juice, Glycerin, Cyclopentasiloxane Glycereth-26, Dimethicone, Niacinamide, Water, Pyrus Malus (apple) Fruit water, Citrus Aurantium Bergamia (bergamot) Fruit Oil, Hydralized Viola Tricolor Extract, Goat Milk Extract, Hydralized Collagen, Nymphaea Alba Flower Extract, Xylitol, Lactobacillus Ferment, Lactococcus Ferment Lysate, Bifida Ferment Lysate, Streptococcus Thermophilus Ferment, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-6 Distearate, Butylene Glycol, Propanediol, Triethylhexanoin, 1,2 Hexanediol, Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer Glyceryl Stearate, Panthenol, Jojoba Esthers, Cerearyl Olivate, Sorbitan Olivate, Acrylates, C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer Ammonium Acryloyldimethyltaurate, VP Copolymer, Glyceryl Caprylate, Tromethamine, Sodium Polyacrylate, Polyglyceryl-3, Beeswax, Adenosine, Biosaccharide Gum-1, Sodium Hyaluronate, Hyaluronic acid, Hydrolized hyluronic acid, Polyglutamic Acid, Ethylhexylglycerin, Dipropylene Glycol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Sodium Palmitoyl Proline, Caprylic/Capric Triglyceride, Phosholipids Ceramide NP, Protease, Cholesterol Arginine, Phytosterols, Cetyl Alcohol, Disodium EDTA, Phenoxyethanol

 

Brand

Hyggee

Hyggee korean skin care logo SOGI LAB

There are no reviews yet.

Be the first to review “All In One Essence”

Your email address will not be published. Required fields are marked *